胡正明1947年生于中国台湾，1970年获斯坦福大学电气工程博士。1976年加入加州大学伯克利分校任教授。1980年代他带领团队开发了BSIM(Berkeley Short-channel IGFET Model)模型，成为芯片工业的世界标准。2001年台积电创始人张忠谋邀请他担任台积电CTO。他主导了台积电的技术路线规划，包括从130nm、65nm到7nm、5nm的每一代工艺节点。2024年他卸任CTO后任台积电技术长。2020年获美国国家技术奖章。