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Dawon Kahng
Dawon Kahng Dawon Kahng
韩国裔美国工程师、MOSFET 共同发明人
💡 MOSFET、半导体 🌍 美国(韩国裔) 📅 1931 📂 芯片半导体 👁 20836 次浏览

📖 人物简介

1931-1992,韩国裔美国工程师。1959 年与 John Atalla 共同发明 MOSFET。2009 年获 IEEE 电子器件终身成就奖。

🌟 主要成就

MOSFET;浮置栅极存储原型;IEEE 电子器件终身成就奖

📄 详细介绍

Dawon Kahng 1931 年生于韩国汉城(现首尔),1955 年本科毕业于汉城大学,1959 年获俄亥俄大学电气工程博士学位。他是贝尔实验室研究员、MOSFET 的共同发明人。1959 年他与 John Atalla 在贝尔实验室成功演示了第一个工作的 MOSFET 器件(用金做栅极)。这一发明开启了现代集成电路时代。他还参与了浮置栅极存储器(Flash 的原型) 的早期研究。1992 年去世。2009 年被追授 IEEE 电子器件终身成就奖。

📋 基本信息

所属机构
贝尔实验室
职务
研究员
学历背景
俄亥俄大学博士

🏆 荣誉称号

IEEE 电子器件终身成就奖(追授)美国国家发明家名人堂贝尔实验室研究员
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